主要功能是控制产品(如硅芯片)接触到的大气的清洁度和温度和湿度，使产品能够在良好的环境空间中生产和制造。我们称这个空间为净化车间。按照国际惯例，净化工程水平主要根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来确定。

也就是说，所谓的无尘并不是没有灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然，与我们净化工程常见的灰尘相比，这个标准中符合灰尘标准的颗粒很小，但对于光学结构来说，它是负面的。

净化工程每立方米将小于0.3微米粒径的灰尘数量控制在3500以下，达到*无尘标准的A级。目前，芯片级生产加工中使用的净化车间的无尘标准对灰尘的要求高于A级，这种高标准主要用于一些*芯片生产。5μ每立方米1000个以下的微尘数量被严格控制，这就是业界所说的1K级

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